西洲渡

一只还没迈入IC领域的小菜鸡

GaN HEMT射频器件中设计参数的影响

问题


上图为一GaN射频器件的基本结构。假如其中的可调变量有:

  • 栅电极栅脚长度:Lg;
  • 栅电极栅头长度:Lgh;
  • 栅-源间距Lgs;
  • 栅-漏间距Lgd;
  • 钝化层介电常数εpas;
  • 棚电极宽度W;
  • 势垒层厚度tB;
  • 势垒层AlGaN中Al组分xAl;
  • 缓冲层背景掺杂浓度nbuf;
  • 衬底热导率θsub;
  • 衬底厚度tsub;

论述改变上述参数大小时,对器件直流、小信号、高频噪声和大信号特性的影响,并简单说明影响的物理机制。

公式:

image.png

栅电极栅脚长度_Lg_

根据膝点电压公式可知栅脚长度_Lg_和沟道电阻_Rch_成正比,因此栅电极栅脚长度_Lg_越大,沟道电阻_Rch_越大,膝点电压_Vknee_越大。
根据漏电公式可知减小栅电极长度_Lg_可以有效地减小表面漏电_Ileak_,但同时也会造成短沟道效应。增大栅电极长度_Lg_可以增大击穿电压,不过同时也会降低器件跨导_gm_。这样同时也会降低匹配时的增益,对于输出功率来说,由于膝点电压增大,会导致输出功率减小。对于高频噪声来说,由于跨导的降低导致等效噪声电阻增大。
根据截止频率公式可知,截止频率_fT_和栅电极长度_Lg_成反比,减小栅电极长度,截止频率增大。

栅电极栅头长度_Lgh_

栅电极栅头长度_Lgh_越大,栅电极电阻_RG_越小,根据最大振荡频率公式,增大栅头长度_Lgh_,可以有效减小栅电阻_RG_,进而增大振荡频率_fmax_。

栅-源间距_Lgs_

根据膝点电压公式可知栅-源间距_Lgs_和栅-源导通电阻_Rs,ac_成正比,栅-源间距_Lgs_越小,栅-源间的导通电阻_Rs,ac_越小,膝点电压_Vknee_越小。
根据跨导公式可知,栅-源导通电阻_Rs_越大,器件跨导越小,减小栅-源间距_Lgs_可以有效地增大器件的跨导。同时根据截止频率公式可知,减小栅-源间距_Lgs_可以减小导通电阻_Rs_可以增大截止频率_fT_,但是减小栅源间距会造成栅源间的电容_Cgs_变大,又会减小截止频率_fT_,因此我们要取一个折衷。
栅-源间导通电阻_Rs_的减小又可以使得器件的热损耗减小,进而提高器件的效率。

栅-漏间距_Lgd_

根据膝点电压公式可知栅-漏间距_Lgd_和栅-漏导通电阻_Rd,ac_成正比,栅-漏间距_Lgd_越小,栅-漏间的导通电阻_Rd,ac_越小,膝点电压_Vknee_越小。同时根据截止频率公式可知,减小栅-漏间距_Lgd_可以减小导通电阻_Rd_可以增大截止频率_fT_,但是减小栅漏间距会造成栅漏间的电容_Cgd_变大,又会减小截止频率_fT_,因此我们要取一个折衷。增加截止频率_fT _又可以减小等效噪声电阻。
但是栅-漏间距_Lgd_增大可以提高器件的击穿电压。
栅-漏间导通电阻_Rd_的减小又可以使得器件的热损耗减小,进而提高器件的效率。但是输出的阻抗比较小时,器件的增益会降低。

钝化层介电常数_εpas_

根据跨导公式可知,跨导_gm_和器件的栅电容_Cg_成正比,栅电容_Cg_和钝化层介电常数_εpas_成正比,介电常数_εpas_越大,栅电容_Cg_越大跨导_gm_越高。跨导的增大又有利于提升器件的增益。

栅电极宽度_Wg_

根据饱和电流公式可知直流饱和电流_Ids_和栅电极宽度_Wg_近似正比关系,因此增大栅电极宽度_Wg_,饱和电流_Ids_也会线性增大。
根据膝点电压公式可知栅电极宽度_Wg_越大,导通电阻_Rs,ac_,_Rd,ac_,_Rch_均变小,膝点电压_Vknee_和导通电阻_Ron_成线性正相关关系,和栅电极宽度_Wg_成反比关系。
根据跨导公式可知,器件的跨导_gm_和栅电极宽度_Wg_成正比,栅电极宽度_Wg_越大,器件的跨导越大。导通电阻的减小同时也有利于器件效率的提高和增益的放大。
增大器件的栅宽_Wg_,器件膝点电压_Vknee_减小,输出功率_Pout_变大。

势垒层厚度_tB_

增加势垒层的厚度_tB_会导致异质结结构中的二维电子气浓度_ns_升高,根据饱和电流公式可知当_ns_变大时,直流饱和电流_Ids_也将线性增大。同时沟道内的二维电子气浓度_ns_增大也会减小沟道内导通电阻,导致器件的膝点电压_Vknee_减小。导通电阻的减小同时也有利于器件效率的提高和增益的放大。
根据跨导公式可知,跨导_gm_和器件的栅电容_Cg_成正比,栅电容_Cg_和势垒层厚度_tB_成反比,势垒层越厚,栅电容_Cg_越小跨导_gm_越低。

势垒层AlGaN中Al组分_xAl_

随着势垒层AlGaN中的Al组分的增大,AlGaN势垒层和GaN沟道层晶格失配增大,应力明显。势垒层的极化系数变大,禁带宽度_Eg_展宽,这样会导致异质结的导带势垒变高,二维电子气浓度_ns_变大,根据饱和电流公式可知当_ns_变大时,直流饱和电流_Ids_也将线性增大。
根据膝点电压公式可知沟道内的二维电子气浓度_ns_增大也会减小沟道内的导通电阻,高铝组分的势垒层也会降低方阻_Rsh_,减小导通电阻,进而降低器件的膝点电压_Vknee_。同时提高器件的输出功率和效率以及匹配时的增益。
在增大AlGaN中的Al组分根据漏电公式可知提高势垒层二维电子气浓度_ns_的同时,势垒层高度的增加对于减小栅极漏电_Ig_也有帮助。

缓冲层背景掺杂浓度_nbuf_

使用C或Fe补偿掺杂可以减小缓冲层的掺杂浓度,进而有效的减小缓冲层漏电_Ibuf_,提高器件的击穿电压。

衬底热导率_θsub_

衬底的热导率越高,器件的散热越好,可靠性越高,器件温度下降会导致导通电阻的降低,进而降低膝点电压增大输出功率,散热性能良好又会降低载流子的散射概率,进而增大输运速度,提高饱和电流的大小,增大器件的跨导,降低高频等效电阻。

衬底厚度_tsub_

衬底的热导率越薄(标准100 um),器件的散热越好,可靠性越高,器件温度下降会导致导通电阻的降低,进而降低膝点电压增大输出功率,散热性能良好又会降低载流子的散射概率,进而增大输运速度,提高饱和电流的大小,增大器件的跨导,降低高频等效电阻。